真空镀膜机
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。真空镀膜机检漏要承认漏气究竟的虚漏仍是实漏,因为工件资料加热后都会在不同程度上发生气体,有也许误以为是从外部流进的气体,这即是虚漏,要扫除这种状况。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。
艾明坷科技有限公司专业致力于手套箱、溶剂净化等行业技术服务,艾明坷竭诚为您服务!
薄膜均匀性概念
1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。机械泵有很多种,常用的有滑阀式(此主要应用于大型设备)、活塞往复式、定片式和旋片式(此目前应用广泛,本文主要介绍)四种类型。
2.化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。真空镀膜机厂家介绍在检漏的过程中,需求注意一些问题,才能把检漏作业做好。
以上内容由艾明坷为您提供,今天我们来分享的是薄膜均匀性概念的相关内容,希望对您有所帮助!
真空镀膜机的检漏方法
真空镀膜机厂家查看漏气状况是确保真空镀膜机真空度的一项查看办法,简称检漏,真空度的凹凸是直接影响到镀膜作用的,所以检漏是必不可少的。
通常真空室内漏气都是从室壁上的一些小孔或部件之前的衔接位细缝中发生,当抽气系统抽气后使真空室内压强降低,外部与内部的压强差使气体从压强高的外部流向压强低的真空室内,形成真空度降低。
真空镀膜机厂家介绍在检漏的过程中,需求注意一些问题,才能把检漏作业做好。为真空镀膜设备做好检漏作业是很主要的,形成真空度降低的缘由多种多样,咱们要逐个的处理这些缘由,安稳镀膜的作用。
本信息由艾明坷为您提供,如果您想了解更多产品信息,您可拨打图片上的电话咨询,艾明坷竭诚为您服务!
您好,欢迎莅临艾明坷,欢迎咨询...